ITO真空ホットプレス炉

1. ITO真空ホットプレス炉は自動または手動制御を実現できます。
2. ITO真空ホットプレス炉は、温度と圧力の同期制御を実現できます。
3. ITO真空ホットプレス炉には、過圧および過熱安全警報システムが装備されています。

  • 情報

ITO真空ホットプレス炉の製品紹介:

ITO真空ホットプレス炉は、酸化インジウムと酸化スズ粉末を一定の割合で混合し、高温雰囲気(1600度、酸素焼結)中で一連の製造工程を経て形成される黒灰色のセラミック半導体です。ITOターゲットを原料としてITO膜上にマグネトロンスパッタリングを行い、ITOターゲットをガラス基板やフレキシブル有機フィルム上に酸化させます。ITO膜は導電性と半透明性を有し、その厚さは一般に30nm~200nmです。合金ターゲット真空ホットプレス炉は、真空(または他の雰囲気)条件下であらゆる種類の合金材料をホットプレスするための完全な装置セットです。主に抵抗加熱を採用し、オイルシリンダーによって駆動される圧力ヘッドを押し下げます。この装置は、真空/大気、ホットプレス、高温焼結を組み合わせたもので、あらゆる種類の合金ターゲットの高温熱間成形に適しています。

High Vacuum Hot Pressing Sintering Furnace

ITO真空ホットプレス炉の製品利点:

1. 当社の高真空ホットプレス焼結炉は、真空ホットプレス法を採用した真空ホットプレス炉の一種です。

2. 真空ホットプレス法は、熱エネルギーと機械的特性を利用して粉末材料を緻密化するプロセスです。ITO真空ホットプレス炉が加えるエネルギーにより粉末材料の緻密化が促進され、より低温、より短時間での加工が可能となります。フルデンスITOターゲット製品を自社で完全生産。

3. 本製品は高真空性と強力なシール性を備えた高真空ホットプレス焼結炉です。

4. 弊社のITO真空ホットプレス炉は前開きチャンバー横型設計を採用しており、金型の搬入出が容易です。


ITO真空ホットプレス炉の製品仕様:

設置形態垂直
ヒーター分配モード循環分布(かご)
ヒーター材質黒鉛
断熱材ハードカーボンフェルト
最高温度2300℃
温度制御精度±1℃
温度均一性±5℃
限界真空度5×10-4Pa
圧力上昇率0.5Pa/h
最大圧力1T ~ 1000T オプション
圧子の変位精度
0.1mm
圧力変動±0.1MPa
平均温度帯の広さΦ1000mm×1500mm
制御モード自動/手動


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