研究室用真空ホットプレス炉

1. 実験室用真空ホットプレス炉は、急速に加熱および冷却できます。
2.実験室用真空ホットプレス炉は多用途です。
3. 耐久性の高いラボ用真空ホットプレス炉です。

情報

実験室用真空ホットプレス炉の製品紹介:

実験室用真空熱圧炉は、真空（または他の雰囲気）条件下で材料をホットプレスするための完全な機器セットです。主に抵抗加熱を採用し、オイルシリンダーによって駆動されるプレスヘッドを加圧します。真空・大気、ホットプレス、高温焼結を組み合わせた装置で、粉末冶金や機能性セラミックスなどの新素材の高温熱間成形に適しています。大学の材料学部研究室でのあらゆる種類の新材料の研究開発に適しています。研究用真空ホットプレスは、無酸素または低酸素環境で高温加熱および加工に使用される装置です。通常、炉本体、発熱体、真空システム、温度制御システム、安全システムで構成されます。

laboratory HP

実験室用真空ホットプレス炉の製品の利点:

1.実験室用真空ホットプレスの炉本体は安定した材料で作られており、高温条件下でも安定性を確保できます。

2. 実験用真空炉には、さまざまなニーズを満たすさまざまな制御方法があります。

3. ラボHPは高温で耐久性があり、長寿命です。

4. 研究室用真空ホットプレスは多用途であり、さまざまな実験やプロセスを実行できます。

5. 実験用真空炉には、オペレーターの安全を確保するために複数の安全保護装置が装備されています。オペレーター。オペレーター。

実験室用真空ホットプレス炉の製品仕様:

設置形態	垂直
ヒーター分散方式	円形分布（かご型）
ヒーター材質	グラファイト/タングステン/モリブデン/タンタル/シリコンモリブデン棒/シリコンカーボン棒/ニッケルクロム合金など
断熱材	ハードカーボンフェルト/タングステン、モリブデン反射スクリーン/ムライトフェルトなど
最高温度	2300℃(真空・不活性雰囲気)/1650℃(酸素)
温度制御精度	±1℃
温度均一性	±5℃
到達真空度	5×10 -4Pa
圧力上昇率	0.5Pa/時
最大のプレッシャー	5T--20T オプション
加圧ヘッド変位精度	0.1mm
圧力変動	±0.1MPa
平均温度ゾーンのサイズ	Φ200mm×200mm
制御方法	自動/手動